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晶体生长管式炉

晶体生长管式炉

晶体生长管式炉是科研和工业生产的得力助手,满足了从薄膜生长、电极测试到氧化物晶体生长等多样化的需求,同时提高了科研和工业生产的效率和质量。

  • 热场/炉膛:陶瓷纤维炉膛
  • 加热元件:电阻丝 ,硅碳棒 ,硅钼棒 ,高纯硅钼棒
  • 最高温度:1200℃ ,1400℃ ,1600℃
  • 使用温度:1100℃ ,1300℃ ,1500℃
  • 真空度:高真空 ,低真空,非真空
  • 可用气氛:惰性气氛(N2、CO2、Ar2等)
  • 应用工艺:烧结 ,钎焊 ,热处理 ,气相沉积,锂电池材料
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产品介绍

晶体生长管式炉简介

高温管式炉作为一种高效、稳定的实验设备,其应用范围极为广泛,在粉末表面沉积的化学气相沉积(CVD)实验中,管式炉凭借其独特的优势,成为了众多研究者的首选工具。这种技术不仅适用于薄膜生长,还广泛涉及电极测试、氧化物晶体生长以及快速退火等多种实验需求。

管式炉的温度范围大,能够满足不同实验和生产的需求。无论是高温还是低温实验,管式炉都能够提供稳定的温度环境,确保实验和生产的顺利进行,管式炉还具有温区多、可选配气氛、抽真空炉型等特点,这些特点使得管式炉能够适应更多的实验和生产需求,为用户提供更加灵活和多样的选择。

轮播1

管式炉特点

1、智能调节

高温管式炉搭载了前沿的智能调节算法,确保在加热和冷却的每一个环节都能实现精准控制。该算法有效避免了超调现象,使炉温控制更加稳定可靠,自整定功能可根据实时数据自动调整参数,实现任意斜率的升温和降温控制,轻松应对各种复杂工艺需求。

2、可编程/可操作命令

为了满足不同用户的实际需求,真空管式炉支持多种可编程/可操作命令,如跳转(循环)、运行、暂停及停止等,这些功能使用户能够轻松设置不同的工作模式,实现灵活多样的控制,不仅提高了设备的自动化程度,还大大降低了操作难度。

旋转管式炉

3、测量系统

为了确保测量结果的精确性和稳定性,输入及输出均采用了数字校正系统,提高了测量的准确性。

测量精度高达0.2级,为科研人员和工业生产提供了可靠的数据支持,无论是精密的实验还是大规模的生产,管式炉都能确保结果的准确性和一致性,从而提高科研和工业生产的效率和质量。

4、报警功能

为了保障设备的安全运行,管式烧结炉配备了完善的报警系统,一旦出现异常情况,如炉温超出设定范围或输入开路等,会立即发出警报,提醒操作人员及时处理,有效避免了潜在的安全隐患,确保了设备的稳定运行和实验的顺利进行。

真空管式炉

总结

晶体生长管式炉凭借其广泛的温度范围、精确的测量系统、智能的调节算法以及完善的报警功能,在科研和工业生产中发挥着重要的作用,不仅能够满足各种复杂的实验和生产需求,还能够提高实验和生产的效率和质量。

服务流程

项目前期沟通
一对一沟通客户需求,包括对温度,规格等要求,针对性提供最合理的建议,满足客户的需求。
制定方案及确认
根据客户的不同需求为用户提供针对每台试验设备的系统,功能改造方案,确保用户的利益最大化。
生产测试及发货
确认方案并确保更好的实施后,生产出设备并进行有效测试,达到用户的使用标准,然后装箱发货。
指导安装及调试
设备达到现场后,根据验货清单验收,确保按合同交货。安排技术人员到现场指导安装及调试支持。

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